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齐早已全身心扎进集成电路车间。春节前，中规模集成电路晶片的研发已接近关键节点——即将实现处理复杂逻辑运算的能力。因此节后复工以来，他将绝大部分精力都投入到这里，连计算所那边的事务都暂时搁置，更不用说参加各种例行会议了。除非有重要任务需要协调，否则他几乎全天候守在车间。
对他而言，中规模集成电路的工艺攻关已进入后半程，正朝着更复杂的集成层次推进。
接下来的日子里，一机部工业研究所的集成电路车间始终保持着高速运转的状态。在刘光齐的带领下，中规模集成电路研发项目如潮水般突破着各项技术瓶颈，持续攻克着元器件逻辑门数量的限制。由于前期方向明确丶基础扎实，如今的快速进展显得水到渠成。
此刻刘光齐并没有待在项目组的主实验区，而是站在车间另一侧的大黑板前，用粉笔勾勒着复杂的图纸。这是光刻机的技术原理图——基于此前在小规模集成电路研发中改良的光刻工艺，结合与中国科学院的技术交流，他正在着手设计初代接触式光刻机。
要实现集成电路晶片的批量生产，光刻机是必须跨越的技术关口。事实上，国内的光刻技术研发早在六十年代初便已起步。这个时代的中国科研工作者凭藉自力更生的精神，在极其艰苦的条件下，硬是研制出了光刻机丶晶片离子注入机等一系列精密设备。
即便没有刘光齐的出现，六十年代初期的光刻工艺也已奠定基础。而此时，距离未来光刻机巨头ASML的创立尚有近二十年时间。
在半导体技术竞赛的最初阶段，华国本是领跑者。
可为何后来——
这片土地上的光刻技术，反而渐渐落在了西方身后？
答案直白得近乎残酷。
购买胜过自研，租赁胜过购买。
这样的**曾长久笼罩着这片大地。
换言之，
早年的华国受限于经济条件，要在光刻这类尖端技术上取得突破，步履维艰。
研发的齿轮因此缓缓减速，几近停转。
这一停，便是将近二十载光阴。
须知，
光刻工艺的每一点进步，都需经年累月的投入与人才的层层积淀。
华国虽出发得早，
底子却仍显单薄，加之外部的技术围栏，追赶之路并非坦途。
而今，
刘光琪站在了这里。他绝不会眼睁睁放过半导体天穹中最亮的那颗星——
光刻机。
此时西方的光刻技术亦在萌芽不久，虽略领先于华国，优势却也微薄。
刘光琪的谋划是——
一手推进中规模集成电路的研制，一手将光刻机从蓝图化为现实。
两条路并进。
待时日稍积，
便能以更精进的光刻工艺，反哺集成电路的制造，让晶片如潮水般涌向市场。
光刻机之理，
在物理层面并不幽深，核心属于微电子科学与工程的疆域。
这是一门交织的学问，
融汇了物理丶材料丶光学与精密机械的智慧。
恰巧，刘光琪依凭前世的积淀与此世卓绝的领悟力，早已触及光刻技术的门径。
若以修筑百层高楼比喻晶片的制造，
那么光刻机便是勾勒骨架的笔锋——
绘一层轮廓，覆一层材质，再续绘下一层。
说来轻巧，
真要将光刻化为现实，却复杂得超乎想像。
此刻，
所有的视线都紧紧锁在那台新生的银灰色设备上。
那是一台接触式光刻机，
静立如碑，镜头在灯光下流转着冷静而精密的光泽。
一名戴眼镜的技术员弯身贴在机台前，额间沁满细汗，连呼吸都屏住了。
整个集成电路车间的空气仿佛凝结成冰。
忽然——
「线路……线路完整！」
「成了！曝光的电路图形没有断裂，精度完全符合要求！」
这句话像冷水溅入热油，
轰然一声，
车间里爆发出雷鸣般的欢呼。
「我们做到了！真的做出来了！」
这台机器，
承载着太多人的心血，也凝聚着刘光琪独排众议的坚持。
如今它终于回应了所有期待。
要知道，
接触式光刻机正是中规模集成电路制造的生命线，决定着晶片的集成高度与产出品质。
去年刘光琪顶着重重压力，坚持分头并进——
一边在计算所与微电子研究员展开前瞻探讨，一边分组同步推动研发。
如今，
这**全自主研制的光刻机，
即将为中规模集成电路的最终落地，扫清最关键的障碍。
看着四周一张张因狂喜而涨红的脸，