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约热内卢，余州，长安，成度等十二个研发分中心之后，为了节约开支，高瓴的研发中心扩张今年慢了下来，并没有增加研发部门。
高瓴的研发中心扩张步伐算是稳定下来，不会再有太多的变化。
基本的框架，也是限制于此。
这研发中心太多了，内部的管理管线就会过于复杂，增加中间层级的风险。
所以高怀钧觉得现在这样的一个框架，足以把世界上能够挖掘到的潜力年轻人给挖到了。
而现在高瓴芯片厂，则从原来黯淡无光的一个小角色，蜕变成为了全村的希望。
在建设完成了高瓴芯片厂二期工厂之后，三期工厂就要开始建设！
这个工厂，将落地帝都！
会是高瓴和帝都政府一起联合建设的一个大型的芯片制造厂。
核心目的，就是生产先进制程的高端芯片。
不过，由于现在紧接而来的针对阿斯麦的限购条例，这也导致了高瓴现在在市场上，已经是购买不到像样的一手光刻机！
所以，现在除了让华国督促02专项继续做研发之外，高瓴也是在做两条腿走路，开始针对光刻机做自己的相关研发。
高瓴这样的公司，怎么可能把鸡蛋只放在一个篮子里面呢？
这个秘密研发小组，其实在两年前就成立了，在最开始的时候人不多，就一百来号人，一小部分是从阿斯麦公司等光刻机公司秘密招聘的华裔员工，而另外一部分则是让高瓴光刻机厂调配过来的研发人员进行逆向解构！
虽然对于这个庞然大物，进展很缓慢，但是也是慢慢摸到了一些路子。
比如一项名为“反射镜、光刻装置及控制方法”的euv光刻机专利，就被申请了国家专利。
以高瓴以往向来不打无准备之仗的惯例，这意味着高瓴在光刻机方面已取得了重大突破，对华国的光刻机产业无疑是重大的助力。
高瓴研发的“反射镜、光刻装置及控制方法”的euv光刻机专利，其实就是光刻机的核心技术之一，从90n工艺以来，duv光刻机所采用的光源都是193n的光源，而euv光源则是135n，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193n光源生产65n至7n工艺、135n光线实现7n至2n的工艺。
高瓴的研发的光刻机技术应该就是为了解决这个核心技术问题。
高瓴亲自下场研发光刻机，在于它已深刻认识到等待光刻机的缓慢研发遥遥无期
毕竟如今东大连先进制程的duv光刻机都不让a出售给华国。
如此高瓴亲自下场研发光刻机技术，可以加速华国的光刻机技术的进展。
帮助华国，其实核心还是帮助自己。
国产的光刻机将形成了一条完整的产业链条，成为全球唯一拥有光刻机全产业链的经济体。
在高瓴的深度介入之下，双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面都已有相关企业陆续进行突破性的研发，如今高瓴在光线折射技术方面的突破，无疑将补上最后的重要短板，如此国产光刻机成为现实的日子进一步靠近。
高瓴，也实在是等不起，被卡脖子的滋味啊！
高瓴现在也是够悲壮的，这样重要的项目居然需要一家民营企业从头到尾自己啃硬骨头。
这没办法！
如果再过两年没有成功，高瓴可不敢想象高瓴科技会垮成什么样子！
而在高瓴集团2018年销售额的年度总结之中，高瓴科技和高瓴车辆的业绩，虽然有着自裁方面的影响，但是这个影响到目前为止，并没有太过于深的影响到高瓴科技的销量，这个影响会在2019年才会慢慢显现出来，所以2018年的销售量，较2017年，是狠狠地前进了一大步。
高瓴科技板块。
笔电产品nteb是高瓴一个比较低调，但是又比较稳定的业务板块。
不过自裁事件对于笔电业务影响并不是特别大，毕竟笔电内部的空间足够大，只要做到多核并联，就可以提供稳定的低端芯片供应。
也不需要现在最先进的叠加芯片的使用。
在2017年，高瓴推出了商务本的使用之后，高瓴现在已经有了游戏本，商务本，轻薄本，女性本等多款实用的笔记本产品。
现在高瓴在笔记本电脑领域的布局，在五年之后，算是完成了。
产品质量比起老司机连想，依然还有一定的问题，但是相比较而言，问题并不是特别大。
一些几年前存在的老问题，比如散热烫手，由于追求极致轻薄导致的插电口极为容易坏等问题，都是得到了有效地解决。
高瓴是一家非常注重客户体验的公司，它在一个领域站稳了脚跟，那么它的迭代速度，其实是非常快速的。
相应的，2018年的业绩，也顺势增