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出一台笔记本电脑，连接到会议室的大屏幕上。
“首先，我们来分析一下问题的根源。”苏宇指着屏幕上的芯片结构图，语速不快，却条理清晰，“你们现在使用的是传统的化学放大型光刻胶，在5nm工艺下，光刻胶的厚度只有30nm。在曝光过程中，光子的散射效应会导致光刻胶边缘模糊，从而产生漏电现象。”
陈建国不屑地说道：“这我们当然知道！问题是怎么解决！寰球顶尖光刻机厂商艾斯摩尔都没有完美的解决方案！”
（本章未完，请点击下一页继续阅读）第40章技术助力，初见成效(第2/2页)
“艾斯摩尔没有，不代表我们没有。”苏宇淡淡地说道，“我的解决方案是，放弃传统的化学放大型光刻胶，改用我研发的‘量子点光刻胶’。”
他一边说，一边在屏幕上画出了一个复杂的分子结构图。
“这种量子点光刻胶，以单分散的硒化镉量子点为核心，表面修饰有光敏基团。在曝光时，量子点会产生局域表面等离子体共振效应，将光子能量集中在纳米级范围内，完全消除了散射效应。同时，量子点的尺寸均匀性可以控制在0.1nm以内，光刻精度可以达到1nm以下。”
苏宇的语速越来越快，从量子点的合成方法，到光刻工艺的参数优化，再到显影液的配方调整，每一个技术细节都讲得非常透彻。
楚冰和陈建国的脸色，从最初的怀疑，逐渐变成了惊讶，最后变成了震惊。
他们都是芯片领域的顶尖专家，自然能听出苏宇说的这些话的含金量。
这个方案，不仅逻辑严谨，而且完全可行！
尤其是那个“量子点光刻胶”的概念，简直是天才般的创新！他们之前怎么就没想到呢？
“这……这太不可思议了！”陈建国激动得浑身发抖，“如果这个方案真的可行，我们不仅能解决5nm的问题，甚至能直接冲击2nm工艺！”
楚冰也激动得站了起来，身体微微颤抖。她看着苏宇，眼中闪烁着难以置信的光芒：“苏总，你……你是怎么想到这个方案的？”
苏宇笑了笑，说道：“我平时喜欢研究一些前沿物理，正好在量子点领域有一些积累。昨天听说了你们的问题，回去想了一夜，就设计出了这个方案。”
他当然不能说，这是他从系统奖励的【量子芯片全套技术图纸】里抄来的。
楚冰深深地吸了一口气，努力平复内心的激动。她看着苏宇，认真地说道：“苏总，谢谢你。如果这个方案真的能成功，你就是冰芯科技的救命恩人。”
“楚总客气了。”苏宇笑着说道，“我也是为了龙国的芯片产业。而且，我相信我们两家公司合作，一定能创造出更大的价值。”
“好！”楚冰毫不犹豫地说道，“我们现在就去实验室，进行第一次试验！”
“现在？”苏宇看了一眼墙上的时钟，已经凌晨三点了。
“对，就现在！”楚冰的眼中闪烁着兴奋的光芒，一扫之前的疲惫，“我已经等不及了！”
看着楚冰眼中重新燃起的光芒，苏宇的心中也充满了喜悦。
一行人立刻来到了地下三层的超净实验室。
工程师们虽然已经疲惫不堪，但听到有新的解决方案，都立刻打起了精神。
按照苏宇给出的配方，工程师们紧急调配了量子点光刻胶。然后，将一片8英寸的硅片放入了EUV光刻机中。
所有人都屏住了呼吸，眼睛死死地盯着监控屏幕。
苏宇站在楚冰身边，能清晰地感觉到她的紧张。她的手紧紧地攥着衣角，指节都发白了。
苏宇轻轻碰了碰她的胳膊，低声说道：“别紧张，一定会成功的。”
楚冰转过头，看向苏宇。他的眼神平静而自信，像一颗定海神针，让她慌乱的心瞬间安定了下来。
她轻轻点了点头，重新看向屏幕。
时间一分一秒地过去。
一个小时后，第一片采用量子点光刻胶的晶圆，终于从光刻机中缓缓送出。
“快！拿去检测！”陈建国激动地大喊道。
检测工程师小心翼翼地拿着晶圆，跑进了检测室。
所有人都围在检测室外面，焦急地等待着。
十分钟，像一个世纪那么漫长。
终于，检测室的门开了。
检测工程师拿着检测报告，脸上带着难以置信的狂喜，大喊道：“成功了！我们成功了！”
“光刻精度达到0.8nm！漏电率为0！良率100%！”
“轰！”
整个实验室瞬间沸腾了。
工程师们欢呼雀跃，互相拥抱，很多人都激动得流下了眼泪。
三个月的压抑和绝望，在这一刻全部释放了出来。
他们成功了！
他们真的研发出了世界上最先进的光刻技